直流偏压对脉冲激光烧蚀沉积非晶碳膜的影响

郭建; 杨益民

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直流偏压对脉冲激光烧蚀沉积非晶碳膜的影响

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在不同的负直流衬底偏压下 ,用脉冲激光沉积法在单晶 Si和 K9玻璃衬底上沉积水晶碳膜。用扫描电镜观察膜的表面形貌 ;用椭偏法测量沉积在 K9玻璃上的膜的厚度和折射率 ;显微硬度相对于硅衬底测量 ;对沉积在硅衬底上的膜进行了 Raman光谱分析 ,光谱表现为 3个峰。在激光能量相同时 ,线宽随偏压不同而不同 ,膜的硬度随偏压不同而不同。

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来源
《光电子．激光》 |2002年第10期|1044-1047|共4页
作者
郭建; 杨益民;
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作者单位

湘潭大学物理系;

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正文语种 chi
中图分类干法腐蚀工艺;激光的应用;
关键词
直流偏压; 脉冲激光; 烧蚀沉积; 非晶碳膜; 激光烧蚀;

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