钒化合物稳定剂对锡电沉积过程的影响

牛振江; 林飞峰; 杨防祖; 姚士冰; 周绍民

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钒化合物稳定剂对锡电沉积过程的影响

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研究了Shiff碱型光亮剂的酸性镀锡体系中,钒化合物稳定剂对锡电沉积的电流效率和镀层外观及织构的影响.当稳定剂质量浓度为0.10 g/L时,镀层的光亮范围向低电流端扩展,在2.5～5.0 A/dm2电流密度范围内,电流效率及沉积速度都有所提高.镀层显示β-Sn(101)和(112)晶面的织构,但含钒稳定剂的镀液中得到的镀层,(101)晶面的织构系数降低而(112)晶面的织构系数增加.

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来源
《电镀与精饰》 |2001年第3期|1-4|共4页
作者
牛振江; 林飞峰; 杨防祖; 姚士冰; 周绍民;
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作者单位

厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室物理化学研究所,;

厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室物理化学研究所,;

厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室物理化学研究所,;

厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室物理化学研究所,;

厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室物理化学研究所,;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TQ153.13;
关键词
钒化合物; 稳定剂; 电沉积; 酸性镀锡;

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