硫脲浸金电化学行为研究

陶媛媛; 项朋志; 周小华; 叶国华

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硫脲浸金电化学行为研究

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采用循环伏安法(CV)、Tafel曲线和差分脉冲伏安法(DPV)等电化学方法对模拟硫脲浸金体系进行了研究.结果表明,硫脲浓度范围为0.005～0.04 mol/L,浓度增大有利于金的浸出;在Fe3+浓度为0.01～0.08 mol/L范围内,随着Fe3+浓度的增大,金腐蚀电位负移,腐蚀电流变大;适度升温可以提高金的腐蚀.实际矿物浸出验证试验表明,金的浸出率随Fe3+浓度(0.02～0.08 mol/L)增大而增大,最高达到了53.21％;金的浸出率随硫脲浓度(0.005～0.05 mol/L)增大而增大,最高达到了78.67％,与电化学分析结论基本一致.

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来源
《贵金属》 |2021年第1期|22-27|共6页
作者
陶媛媛; 项朋志; 周小华; 叶国华;
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作者单位

昆明理工大学国土资源工程学院昆明 650093;

云南开放大学化学工程学院昆明 650022;

昆明学院昆明滇池(湖泊)污染防治合作研究中心昆明 650214;

昆明理工大学国土资源工程学院昆明 650093;

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正文语种 chi
中图分类吸附;
关键词
硫脲; 浸金; Fe3+浓度; 电化学; 腐蚀性能;

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