半导体先进制程对废水处理的挑战和对策

张云秀; 陈鸣; 厉晓华

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半导体先进制程对废水处理的挑战和对策

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2017年以来,国内半导体制造进入28纳米制程量产阶段.很多半导体代工厂因此引入Single Wafer机台,该类型机台所使用化学品量与制程有较大的改变.同时,大陆普遍更重视环保,排放法规有变紧的趋势,这对废水处理部门造成挑战.本文系统介绍了半导体厂先进制程的废水处理新情况,以及相应的对策,供行业内推广和借鉴.

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来源
《资源节约与环保》 |2018年第11期|63-64|共2页
作者
张云秀; 陈鸣; 厉晓华;
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作者单位

中芯国际集成电路制造(上海)有限公司上海 201203;

中芯国际集成电路制造(上海)有限公司上海 201203;

中芯国际集成电路制造(上海)有限公司上海 201203;

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正文语种 chi
中图分类
关键词
半导体; 28纳米; SingleWafer机台; 废水;

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