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离子注入设备原理与应用

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在现代的半导体制造过程中运用了多种先进的工艺技术，离子注入就是其中的一种。它的作用主要是向硅衬底中注入一定数量和能量的杂质，以改变硅衬底中特定区域的电学性能。因为离子注入技术在实际的应用中，具有极高的工艺可重复性和对掺杂浓度和深度优良的控制能力，它已经成为了半导体制造过程中重要的工艺技术。

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来源
《半导体行业》 |2008年第5期|59-61|共3页
作者
曹鸣; 黄其煜;
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作者单位

上海交通大学微电子学院;

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正文语种 CHI
中图分类掺杂;
关键词
离子注入技术; 设备原理; 应用; 制造过程; 电学性能; 掺杂浓度; 可重复性; 半导体;

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