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付士萍;
碳化硅; 氮; 掺杂浓度; 光致发光; 测定;
机译:低温光致发光法测定4H-SiC掺杂外延层中氮的掺杂浓度
机译:拉曼散射显微镜氮掺杂4H-SiC晶体中氮掺杂浓度的新特征方法
机译:高质量无补偿p型4H-SiC中光致发光对铝掺杂浓度范围的校准
机译:新分辨的声子辅助过渡和精细结构在低温波长调制吸收和光致发光光谱中为6H siC
机译:使用光致发光光谱法研究N型4H碳化硅和半绝缘6H碳化硅中的缺陷。
机译:通过室温μ-光致发光和μ-拉曼分析表征3C-SiC外延层截面中的4H和6H类堆积缺陷
机译:低温光致发光法测定半绝缘4H-siC中残余氮的浓度。
机译:取代的6-氨基-(6H)-二苯并(c,e)(1,2)-氧杂氮膦化合物的制备,可用作阻燃剂,例如在环氧化物树脂中,包括使用胺化合物对(6H)-二苯并(c,e)(1,2)-草氮磷膦化合物进行氨基转移
机译:半导体材料光致发光测量中的掺杂浓度和少数载流子寿命的分离
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