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许艳阳;
碳化硅; 薄膜; 氟化气体; 氧气; 反应离子刻蚀;
机译:使用非腐蚀性气体混合物对Ru薄膜进行高密度等离子体反应离子刻蚀
机译:基于NF_3的气体混合物对SiC单晶的电感耦合等离子体反应离子刻蚀
机译:氟化物气体等离子体反应离子刻蚀法制备LiNbO3晶体的刻蚀特性
机译:三氟化物气体碳化硅薄膜形成装置的研制:成功消化碳涂层热分解碳膜三氟化物气体耐腐蚀性
机译:汽油中的乙醇和甲醇混和物:发动机性能和排放的实验方法(酒精,混和物)。
机译:利用ArO2和(Ar + O2)气体进行射频等离子体处理PVDF薄膜以改善聚吡咯粘合性的研究
机译:晶体结构通过反应离子刻蚀在4H-siC上形成残留物
机译:氟化气体与氧气混合物对siC薄膜的反应离子刻蚀
机译:使用由氟化合物气体和氧气组成的气体混合物对钨进行等离子体处理
机译:稀土氟化物细颗粒分散体,分散体的制备方法,利用分散体制备稀土氟化物薄膜的方法,利用分散体制备高分子化合物/稀土氟化物复合膜的方法以及稀土元素
机译:在低衬底温度下使用包括碳氟化合物气体和含氧气体的气体化学方法进行干法刻蚀的方法
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