等离子体刻蚀对Nafion(R)膜性能的影响

唐金库; 巴俊洲; 蒋亚雄; 李军

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等离子体刻蚀对Nafion(R)膜性能的影响

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介绍了不同等离子体刻蚀条件对用于电解水制氢领域的Nafion(R)117膜的性能影响.测试经表面刻蚀处理的Nafion(R)膜的含水率、交换容量和电解性能,寻找最适用于Nafion(R)膜表面刻蚀的条件.适宜的刻蚀有效地扩大了Nafion(R)膜和催化电极之间的反应界面,并且使电极形成多孔结构,有利于产生的气体从电极上释放,降低槽电压.但过度刻蚀将破坏膜的离子簇,导致气阻增加,引起槽体性能下降.因此应严格控制射频功率和处理时间.

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来源
《舰船科学技术》 |2007年第6期|135-138|共4页
作者
唐金库; 巴俊洲; 蒋亚雄; 李军;
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作者单位

中国船舶重工集团公司第七一八研究所,河北,邯郸,056027;

中国船舶重工集团公司第七一八研究所,河北,邯郸,056027;

中国船舶重工集团公司第七一八研究所,河北,邯郸,056027;

中国船舶重工集团公司第七一八研究所,河北,邯郸,056027;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 O63.3;
关键词
等离子体刻蚀; Nafion(R); 膜-电极界面;

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