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中国机械工程学会表面工程分会;
物理气相沉积; 磁控溅射技术; 表面工程; 高功率脉冲磁控溅射; 薄膜性能; 放电机理; 结构可控性; 专题会议;
机译:一种有效的证据和测量高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)的金属离子部分用PT,AU,Pd和混合靶标测量高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)
机译:高功率脉冲不平衡磁控溅射的放电性能%高功率脉冲不平衡磁控溅射的放电性能
机译:高功率脉冲和偏置电压匹配的影响:高功率脉冲磁控溅射沉积的锡涂层
机译:高功率脉冲调制脉冲功率磁控溅射中等离子体的时间分辨研究与比较
机译:用于互连金属化的高功率脉冲磁控溅射和调制脉冲功率溅射的比较。
机译:高功率脉冲磁控溅射
机译:高功率脉冲磁控溅射和脉冲磁控溅射沉积氧化钇稳定氧化锆薄膜
机译:提高用于高重复频率,短脉冲,高功率脉冲发生器的功率mOsFET的开关性能
机译:高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)的闪频抑制和脉冲
机译:SP3高功率脉冲磁控溅射工艺,可实现高密度,高SP3含量的层
机译:实现高密度,高SP3含量的高功率脉冲磁控溅射工艺
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