CuCr触头中Cr含量对真空断路器开断能力的影响

张蔚平

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我们研究季ＣｕＣｒ触头中Ｃｒ的含量在１２．５％￣７５％（重量比）范围内变化时，ＣｕＣｒ触头对电流开断后的电流开断能力、电弧形态、阳极熔融时间和触头侵蚀的影响。研究结果表明：当Ｃｒ含量在上述范围内变化时，其含量越低，电流开断能力就越好。也证明了Ｃｒ含量减少时，电流开断后电弧的集聚时间和阳极熔融时间变短，而ＣｕＣｒ触头的侵蚀却增大。根据这点，我们便会预想到灭弧室所用ＣｕＣｒ触头的Ｃｒ含量应有一最佳值

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来源
《真空电器技术》|1998年第4期|15-19|共5页
作者
张蔚平;
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作者单位

日本东芝公司;

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正文语种 CHI
中图分类真空断路器;
关键词
真空断路器; CuCr触头; 开断能力; Cr;

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