中频交流反应溅射TiO_2薄膜的制备及性能研究

侯亚奇; 庄大明; 张弓; 吴敏生

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中频交流反应溅射TiO_2薄膜的制备及性能研究

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利用中频交流磁控溅射设备用金属Ti靶制备出了TiO2 薄膜。用椭偏仪测试了TiO2 薄膜的厚度和折射率 ,用俄歇电子能谱、扫描电子显微镜、X射线衍射仪和紫外及可见光分光光度计分别测试了TiO2 薄膜的表面成分、表面形貌、晶体结构及其紫外及可见光透射谱 ,并初步探讨了工艺因素对薄膜性质的影响。实验结果表明 :所制备的氧化钛薄膜O/Ti比符合化学计量比 ,而且O/Ti比随O2 流量的变化不大 ;TiO2 薄膜结构主要为锐钛矿型 ;薄膜表面致密 ;TiO2 薄膜光学性能较好 ,透射比较高 ;但O2 流量较低时透射比明显下降。

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来源
《真空科学与技术学报》 |2001年第6期|457-460|共4页
作者
侯亚奇; 庄大明; 张弓; 吴敏生;
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作者单位

清华大学机械工程系;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜物理学;薄膜技术;
关键词
TiO2薄膜; 中频交流磁控溅射; 光催化降解; 锐钛矿; 二氧化钛薄膜; 制备; 有机物; 光学性能; 光催化剂;

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