消除外延衬底中心圈缺陷的晶片清洗工艺研究及应用

著录项

• 来源
  《云南冶金》 |2022年第4期|192-196|共5页
• 作者

  李国芳; 陈飞宏; 普世坤; 柳廷龙; 刘汉保; 陈代凤; 李娇;

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• 作者单位

  云南临沧鑫圆锗业股份有限公司;

  云南鑫耀半导体材料有限公司;

  云南中科鑫圆晶体材料有限公司;

  昆明云锗高新技术有限公司;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 洁净技术;
• 关键词

  砷化镓晶片; 清洗工艺; 自动清洗; 人工清洗; 衬底中心圈缺陷;