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Research on the Surface Evolution of Single Crystal Silicon Mirror Contaminated by Metallic Elements during Elastic Jet Polishing Techniques

机译：弹性喷射抛光技术中金属元素污染的单晶硅镜表面演变的研究

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Metallic elements can contaminate single crystal silicon mirror during ion beam etching (IBE) and other postprocessing methods, which can affect the performance of components in an infrared laser system. In this work, scanning electron microscope (SEM) and atomic force microscope (AFM) were used to characterize the distribution of contaminant represented by aluminum (Al). After characterizing contaminated area, elastic jet polishing (EJP), EJP, and static alkaline etching (SAE) combined technique were used to process the mirror. The morphology and laser-induced absorption were measured. Results show that metallic elements can mix with silicon and generate bulges due to the sputtering effect. In addition, SAE and EJP combined technique can remove metallic contaminant and stabilize the surface quality. Research results can be a reference on conducting postprocessing technologies to improve laser damage resistance property of single crystal silicon mirror in infrared laser system.
机译：在离子束蚀刻（IBE）和其他后处理方法中，金属元素会污染单晶硅镜，这会影响红外激光系统中组件的性能。在这项工作中，使用扫描电子显微镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）来表征以铝（Al）表示的污染物的分布。在表征污染区域之后，使用弹性喷射抛光（EJP），EJP和静态碱性蚀刻（SAE）组合技术对镜进行处理。测量了形态和激光诱导的吸收。结果表明，由于溅射效应，金属元素会与硅混合并产生凸起。此外，SAE和EJP组合技术可以去除金属污染物并稳定表面质量。研究结果可为进行后处理技术以提高红外激光系统中单晶硅镜的抗激光损伤性能提供参考。

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