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Fabrication of Antireflective Nanostructures on a Transmission Grating Surface Using a One-Step Self-Masking Method

机译：使用一步自掩膜方法在透射光栅表面上制备抗反射纳米结构

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摘要

Suppression of Fresnel reflection from diffraction grating surfaces is very important for many optical configurations. In this work, we propose a simple method to fabricate subwavelength structures on fused-silica transmission grating for optical antireflection. The fabrication is a one-step self-masking reaction ion etching (RIE) process without using any masks. According to effective medium theory, random cone-shaped nanopillars which are integrated on the grating surface can act as an antireflective layer. Effects of the nanostructures on the reflection and transmission properties of the grating were investigated through experiments and simulations. The nanostructure surface exhibited excellent antireflection performance, where the reflection of the grating surface was suppressed to zero over a wide range of incident angles. Results also revealed that the etching process can change the duty cycle of the grating, and thus the diffraction orders if there are oblique lateral walls. The simulation results were in good agreement with the experimental ones, which verified our physical comprehension and the corresponding numerical model. The proposed method would offer a low-cost and convenient way to improve the antireflective performance of transmission-diffractive elements.
机译：对于许多光学配置，抑制来自衍射光栅表面的菲涅耳反射非常重要。在这项工作中，我们提出了一种在熔融石英透射光栅上制造亚波长结构的简单方法，以进行光学减反射。该制造是不使用任何掩膜的一步式自掩膜反应离子刻蚀（RIE）工艺。根据有效介质理论，集成在光栅表面上的随机锥形纳米柱可以用作抗反射层。通过实验和仿真研究了纳米结构对光栅反射和透射特性的影响。纳米结构表面表现出优异的抗反射性能，其中在宽的入射角范围内，光栅表面的反射被抑制为零。结果还表明，刻蚀过程可以改变光栅的占空比，因此，如果存在倾斜的侧壁，则衍射阶数也可以改变。仿真结果与实验结果吻合良好，验证了我们的物理理解能力和相应的数值模型。所提出的方法将为改进透射衍射元件的抗反射性能提供一种低成本和方便的方法。

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