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Microstructure of non-polar GaN on LiGaO2 grown by plasma-assisted MBE

机译:等离子体辅助MBE在LiGaO2上生长非极性GaN的微观结构

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摘要

We have investigated the structure of non-polar GaN, both on the M - and A-plane, grown on LiGaO2 by plasma-assisted molecular beam epitaxy. The epitaxial relationship and the microstructure of the GaN films are investigated by transmission electron microscopy (TEM). The already reported epi-taxial relationship and for M -plane GaN is confirmed. The main defects are threading dislocations and stacking faults in both samples. For the M -plane sample, the density of threading dislocations is around 1 × 1011 cm-2 and the stacking fault density amounts to approximately 2 × 105 cm-1. In the A-plane sample, a threading dislocation density in the same order was found, while the stacking fault density is much lower than in the M -plane sample.
机译:我们已经研究了通过等离子体辅助分子束外延在LiGaO2上生长的M和A面上的非极性GaN的结构。通过透射电子显微镜(TEM)研究了GaN膜的外延关系和微观结构。证实了已经报道的外延关系以及对于M面GaN。两个样品中的主要缺陷是螺纹位错和堆垛层错。对于M平面样本,螺纹位错的密度约为1×10 11 cm -2 ,堆垛层错密度约为2×10 5 cm -1 。在A平面样品中,发现了相同顺序的螺纹位错密度,而堆垛层错密度却比M平面样品低得多。

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