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Initiated and Oxidative Chemical Vapor Deposition of Polymeric Thin Films: iCVD and oCVD

机译:聚合薄膜的引发和氧化化学气相沉积:iCVD和oCVD

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摘要

The techniques of initiated chemical vapor deposition (iCVD) and oxidative chemical vapor deposition (oCVD) enable the fabrication of chemically well-defined thin polymeric films on complex objects with micro- and nano-scale features. By depositing polyme
机译:引发化学气相沉积(iCVD)和氧化化学气相沉积(oCVD)的技术能够在具有微米和纳米级特征的复杂物体上制造化学清晰定义的聚合物薄膜。通过沉积聚合物

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