...
机译:在任意粗糙的铜表面上通过面介导的高质量单层石墨烯的生长
Pohang Univ Sci & Technol, Dept Chem Engn, Pohang 790784, South Korea;
Pohang Univ Sci & Technol, Dept Chem Engn, Pohang 790784, South Korea;
Pohang Univ Sci & Technol, Dept Chem Engn, Pohang 790784, South Korea;
Pohang Univ Sci & Technol, Dept Chem Engn, Pohang 790784, South Korea;
Pohang Univ Sci & Technol, Dept Chem Engn, Pohang 790784, South Korea;
Pohang Univ Sci & Technol, Dept Chem Engn, Pohang 790784, South Korea;
Konkuk Univ, Dept Organ & Nano Syst Engn, Seoul 143701, South Korea;
Pohang Univ Sci & Technol, Dept Chem Engn, Pohang 790784, South Korea;
机译:通过自限表面反应在掺镍的铜和金催化剂上低温生长完整的单层石墨烯薄膜
机译:化学气相沉积法在铜上合成高质量单层和双层石墨烯
机译:单层石墨烯作为任意形状金属表面的最终化学钝化层
机译:单层石墨烯CVD法合成铜表面的制备
机译:单层石墨烯生长过程中Pd(111)表面台阶动力学
机译:不同种类大面积高质量石墨烯的生长正压H2气氛下预退火的铜箔类型
机译:在二氧化硅上的高质量单层和AB堆叠双层石墨烯的金属催化剂和可控生长