Chemistry for positive pattern transfer using area-selective atomic layer deposition

Chen R; Bent SF

首页> 外文期刊>Advanced Materials >Chemistry for positive pattern transfer using area-selective atomic layer deposition

【24h】

Chemistry for positive pattern transfer using area-selective atomic layer deposition

机译：使用区域选择性原子层沉积进行正图案转移的化学

获取原文

获取原文并翻译 | 示例

掌桥外文数据库（机构版） >>

开具论文收录证明 >>

文献代查 >>

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

A chemically selective process to achieve high-resolution area-selective atomic layer deposition (ALD) of Pt thin films on dielectrics (see figure) is introduced. By utilizing the intrinsically selective adsorption behavior of 1-octadecene, a monolayer resist is attached only to the hydride-terminated silicon regions of a patterned SiO2/Si substrate. Subsequently, a Pt thin film is selectively deposited only onto the oxide regions by ALD.

机译：介绍了一种化学选择性工艺，可在电介质上实现Pt薄膜的高分辨率区域选择性原子层沉积（ALD）（见图）。通过利用1-十八碳烯的固有选择性吸附行为，单层抗蚀剂仅附着到图案化SiO2 / Si衬底的氢化物末端的硅区域。随后，通过ALD仅将Pt薄膜选择性地沉积在氧化物区域上。

著录项

来源
《Advanced Materials》 |2006年第8期|p. 1086-1090|共5页
作者
Chen R; Bent SF;
展开▼
作者单位

Stanford Univ, Dept Chem Engn, Stanford, CA 94305 USA;

Stanford Univ, Dept Chem, Stanford, CA 94305 USA;

展开▼
收录信息
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类工程材料学;
关键词
SILICON-NITRIDE SURFACES; ALKYL MONOLAYERS; THIN-FILMS; OXIDE;

机译：氮化硅表面;烷基单分子膜;薄膜;氧化物;

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Area-Selective Atomic Layer Deposition Using Inkjet-printed Fluorocarbon Patterns as Mask Layers [J] . Young-In Cho, Jun-Ho Yu, Dai Geon Yoon, SID International Symposium: Digest of Technology Papers . 2018,第3期

机译：使用喷墨印刷的氟碳图案作为掩模层的区域选择性原子层沉积
2. Effect of Multilayer versus Monolayer Dodecanethiol on Selectivity and Pattern Integrity in Area-Selective Atomic Layer Deposition [J] . Liu Tzu-Ling, Nardi Katie L., Draeger Nerissa, ACS applied materials & interfaces . 2020,第37期

机译：多层与单层十二烷硫醇对面积选择原子层沉积选择性和图案完整性的影响
3. Area-selective atomic layer deposition of Ru on electron-beam-written Pt(C) patterns versus SiO2 substratum [J] . Junige Marcel, Loeffler Markus, Geidel Marion, Nanotechnology . 2017,第39期

机译：ru对电子束写入的ru的区域选择性原子层沉积（c）图案与siO2底层
4. Area-Selective Atomic Layer Deposition: Role of Surface Chemistry [C] . A. Mameli, B. Karasulu, M. A. Verheijen, Meeting of the Electrochemical Society . 2017

机译：区域选择性原子层沉积：表面化学的作用
5. Molecular engineering for thin-film applications: Area-selective atomic layer deposition (ALD) and molecular-atomic layer deposition (MALD). [D] . Huang, Jie. 2014

机译：薄膜应用的分子工程：区域选择性原子层沉积（ALD）和分子原子层沉积（MALD）。
6. Area-Selective Atomic Layer Deposition of Two-DimensionalWS2 Nanolayers [O] . Shashank Balasubramanyam, Marc J. M. Merkx, Marcel A. Verheijen, -1

机译：二维区域选择性原子层沉积WS2纳米层
7. Area-Selective Atomic Layer Deposition Patterned by Electrohydrodynamic Jet Printing for Additive Manufacturing of Functional Materials and Devices [O] . -1

机译：通过电液动力喷射印刷图案化的区域选择性原子层沉积，用于功能材料和装置的添加剂制造

Chemistry for positive pattern transfer using area-selective atomic layer deposition

摘要

著录项

相似文献

相关主题

期刊订阅