机译:反应溅射沉积氧化镍薄膜的结构,形态和电学性质
IRT, F-44340 Bouguenais, France|Univ Nantes, CNRS, Inst Mat Jean Rouxel IMN, Nantes, France;
Univ Nantes, CNRS, Inst Mat Jean Rouxel IMN, Nantes, France|Yachay City Knowledge, Yachay Tech, Sch Phys, Urcuqui 100119, Ecuador;
IRT, F-44340 Bouguenais, France|Univ Nantes, CNRS, Inst Mat Jean Rouxel IMN, Nantes, France;
Univ Nantes, CNRS, Inst Mat Jean Rouxel IMN, Nantes, France;
Univ Nantes, CNRS, Inst Mat Jean Rouxel IMN, Nantes, France;
Univ Nantes, CNRS, Inst Mat Jean Rouxel IMN, Nantes, France;
Univ Nantes, CNRS, Inst Mat Jean Rouxel IMN, Nantes, France;
DC reactive sputtering; Nickel oxide; C-AFM; Electrical characterization; Nickel vacancy;
机译:反应溅射沉积氧化物薄膜:溅射功率和衬底温度对微观结构,形态和电性能的影响
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