机译:使用替代的低能离子轰击程序处理PVC
Laboratdrio de Plasmas Tecnologicos, Universidade Estadual Paulista, Campus Experimental de Sorocaba, Av. Tres de Marfo, 511 Alto da Boa Vista, 18087-180, Sorocaba, SP, Brazil;
Laboratdrio de Plasmas Tecnologicos, Universidade Estadual Paulista, Campus Experimental de Sorocaba, Av. Tres de Marfo, 511 Alto da Boa Vista, 18087-180, Sorocaba, SP, Brazil;
Laboratdrio de Plasmas Tecnologicos, Universidade Estadual Paulista, Campus Experimental de Sorocaba, Av. Tres de Marfo, 511 Alto da Boa Vista, 18087-180, Sorocaba, SP, Brazil;
Laboratdrio de Plasmas Tecnologicos, Universidade Estadual Paulista, Campus Experimental de Sorocaba, Av. Tres de Marfo, 511 Alto da Boa Vista, 18087-180, Sorocaba, SP, Brazil;
Laboratorio de Interfaces e Filmes Finos, Universidade Federal de Parana (UFPR), CP. 19044, 81531-990, Curitiba, PR, Brazil;
Laboratdrio de Plasmas, Universidade Estadual Paulista (UNESP), Departamento de Fisica e Quimica, 12516-410, Guaratingueta. SP, Brazil;
Laboratdrio de Plasmas Tecnologicos, Universidade Estadual Paulista, Campus Experimental de Sorocaba, Av. Tres de Marfo, 511 Alto da Boa Vista, 18087-180, Sorocaba, SP, Brazil;
Laboratdrio de Plasmas Tecnologicos, Universidade Estadual Paulista, Campus Experimental de Sorocaba, Av. Tres de Marfo, 511 Alto da Boa Vista, 18087-180, Sorocaba, SP, Brazil;
PVC; ion bombardment; plasma treatment; wettability; rouehness;
机译:浅深度氧化物注入分布的SIMS深度剖析中的浓度深度校准和轰击诱导的杂质重定位:消除基质效应的程序
机译:低能量Ar〜+离子轰击下溅射铜单体能量分布的质谱研究
机译:电子能量损失谱研究低能Ar +离子轰击对Pt80Co20(111)合金的表面结构和组成的影响
机译:轰击Cu靶的Ar +能量和低能辅助轰击对离子束溅射Cu-W薄膜结构的影响
机译:用反射电子能量损失谱研究立方氮化硼(111)表面的低能离子轰击。
机译:在硅的低能氩离子轰击下从波纹到刻面结构的转变:了解阴影和溅射的作用
机译:低能量离子对气流溅射工艺中Fe膜生长的影响。
机译:城市污水处理中的能源:能源审计程序和支持数据库。实施能源估算的替代方法。附录C.