机译:Zs-n在Ss 316l上反应磁控溅射沉积等离子体的光学特性与沉积膜的表面与力学性能的关系
Centra de Ciencias de la Materia Condensada, Universidad National Autonoma de Mexico, Apdo. Postal 2681, C.P. 22800, Ensenada, Baja California, Mexico;
plasma diagnostics; auger spectroscopy; nanoindentation; thin films; mechanical properties;
机译:基板偏压对反应磁控溅射沉积沉积的ZrO2薄膜结构,机械和腐蚀性能的影响
机译:通过反应磁控溅射沉积的无定形Mg-Si-O-N薄膜的光学和力学性能
机译:RF反应磁控溅射沉积Al2O3超薄膜的光学,形貌和力学性能研究
机译:非反应磁控溅射沉积WS_2-CR_x润滑膜的表面分析,力学,摩擦学和电化学表征
机译:沉积参数与射频磁控溅射沉积氧化锆薄膜性能之间的关系。
机译:磁控溅射沉积SrTiO3薄膜的纳米结构和光学性能研究
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