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首页> 外文期刊>Applied Surface Science >Aliphatic dithiocarboxylic acids: New adsorbates for soft lithographic patterning
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Aliphatic dithiocarboxylic acids: New adsorbates for soft lithographic patterning

机译：脂肪族二硫代羧酸：用于软光刻图案的新型吸附剂

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This paper describes an initial evaluation of the use of aliphatic dithiocarboxylic acids (ADTCAs) as transient protecting agents in soft lithographic patterning, also known as microcontact printing (μCP). Surfaces micropatterned using ADTCA-based inks (C10-C16) were compared to that patterned using a standard hexadecanethiol ink. The patterns were characterized by scanning electron microscopy (SEM) and atomic force microscopy (AFM). Etch-removal studies of SAM-coated gold substrates found that the longer chain-length ADTCAs (C13-C16) provide better protection against etching than the shorter chain-length ADTCAs (C10-C12). These studies demonstrate that ADTCA-derived SAMs can be used as effective resists for soft lithographic applications.
机译：本文介绍了对脂族二硫代羧酸（ADTCAs）作为软光刻图案化（也称为微接触印刷（μCP））中的瞬态保护剂的初步评估。将使用基于ADTCA的油墨（C10-C16）进行微图案化的表面与使用标准十六烷硫醇油墨进行图案化的表面进行了比较。通过扫描电子显微镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）表征图案。对SAM涂层金基底的蚀刻去除研究发现，链长较长的ADTCA（C13-C16）比链长较短的ADTCA（C10-C12）提供更好的防腐蚀保护。这些研究表明，ADTCA衍生的SAM可用作软光刻应用的有效抗蚀剂。

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