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Emission Of Positronium In A Nanometric Pmma Film

机译：纳米Pmma薄膜中正电子的发射

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Positron beam experiments have been performed for the first time on a self-supporting polymethyl metacrylate (PMMA) film of 310 nm-thick made by spin coating. The positronium (Ps) emission from the PMMA surface is studied as a function of the positron implantation energy by using Doppler profile spectroscopy and Compton-to-peak ratio analysis. When the sample and the Ge-detector are perpendicular to the positron beam, the emission of para-positronium (p-Ps) is detected as a narrow central peak. By rotating the sample 45°with respect to the beam, the emission of p-Ps is detected as a blue-shifted fly-away peak. The bulk Ps fraction, the efficiency for the emission of Ps by picking up an electron from the surface, and the diffusion lengths of positrons (thermal and or epithermal), p-Ps and ortho-positronium (o-Ps) are obtained.
机译：在通过旋涂法制成的厚度为310 nm的自支撑聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）膜上首次进行了正电子束实验。通过使用多普勒轮廓光谱和康普顿峰比分析，研究了PMMA表面的正电子（Ps）发射与正电子注入能量的关系。当样品和Ge探测器垂直于正电子束时，对正电子（p-Ps）的发射被检测为狭窄的中心峰。通过将样本相对于光束旋转45°，检测到p-Ps的发射为蓝移飞散峰。获得了整体Ps分数，通过从表面拾取电子而释放Ps的效率，以及正电子（热和或超热），p-Ps和邻正电子（o-Ps）的扩散长度。

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