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Thermal model for nanosecond laser sputtering at high fluences

机译：高通量纳秒激光溅射的热模型

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The vaporization effect and the following plasma shielding generated by high-power nanosecond pulsed laser ablation are studied in detail based on the heat flux equation. As an example of Si target, we obtain the time evolution of the calculated surface temperature, ablation rate and ablation depth by solving the heat flow equations using a finite difference method. It can be seen that plasma shielding plays a more important role in the ablation process with time. At the same time, the variation of ablation depth per pulse with laser fluence is performed. Our numerical results are more agreed with the experiment datum than other simulated results. The result shows that the plasma shielding is very important.
机译：基于热通量方程，详细研究了高功率纳秒脉冲激光烧蚀产生的汽化效应和随后的等离子体屏蔽。作为Si目标的一个示例，我们通过使用有限差分法求解热流方程来获得计算出的表面温度，烧蚀率和烧蚀深度的时间演化。可以看出，随着时间的流逝，等离子体屏蔽在消融过程中起着更为重要的作用。同时，每个脉冲的烧蚀深度随激光能量密度而变化。与其他模拟结果相比，我们的数值结果更符合实验基准。结果表明，等离子体屏蔽非常重要。

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