机译:衬底对α-Fe_2O_3和Ti掺杂α-Fe_2O_3薄膜的结构相形成和磁性能的影响
Pondicherry Univ Dept Phys Pondicherry 605014 India;
UGC DAE Consortium Sci Res Khandwa Rd Indore 452001 Madhya Pradesh India;
Ti doped hematite film; Canted antiferromagnet; Pulse laser deposition; Substrate effect; Thermal annealing;
机译:掺杂有Ti,Zn或Sn的α-Fe_2O_3薄膜表面的磁态
机译:α-Fe_2O_3表面的磁性状态掺杂有Ti,Zn或Sn的薄膜
机译:掺Ti外延α-Fe_2O_3(0001)薄膜的增强的光阳极性能
机译:CR掺杂α-FE_2O_3的结构,磁性和磁电性能
机译:过渡金属掺杂氧化物薄膜的磁和电性能
机译:热氧化硅衬底上非常薄的共溅射Ti-Al和多层Ti / Al膜的相形成和高温稳定性
机译:一系列低掺杂的结构和磁性 Zn $ _ {1-x} $ Co $ _x $ O从(0001)上的Zn和Co金属靶沉积的薄膜 al $ _2 $ O $ _3 $基板
机译:La(sub 0.67)sr(sub 0.33)mnO(sub 3)薄膜的基体和生长相关的微观结构和磁性