...
首页> 外文期刊>Elektronika >WPŁYW PARAMETRÓW PROCESU TECHNOLOGICZNEGO NA WŁAŚCIWOŚCI CIENKICH WARSTW NA BAZIE MIEDZI
【24h】

WPŁYW PARAMETRÓW PROCESU TECHNOLOGICZNEGO NA WŁAŚCIWOŚCI CIENKICH WARSTW NA BAZIE MIEDZI

机译:技术过程参数对薄铜基层性质的影响

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

W pracy przedstawiona została analiza wpływu parametrów procesu technologicznego wytwarzania cienkich warstw tlenków miedzi na ich właściwości strukturalne, optyczne oraz elektryczne. Badaniu poddane zostały warstwy wytworzone za pomocą metody stałoprądowego rozpylania magnetronowego w atmosferze mieszaniny O_2:Ar o zawartości O_2 wynoszącej odpowiednio 75% oraz 100%. Właściwości strukturalne badanych warstw określone zostały na podstawie badania metodą dyfrakcji rentgenowskiej. Właściwości optyczne scharakteryzowano na podstawie pomiaru transmisji światła, a elektryczne na podstawie charakterystyk prądowo-napięciowych. Badanie metodą XRD wykazało, że uzyskano warstwy CuO (tlenku miedzi II) w postaci tenorytu o średnim rozmiarze krystalitów wynoszącym około 13 nm. Badanie właściwości optycznych wykazało, że nie ma różnicy w transmisji światła dla promieniowania krótszego niż około 600 nm. Nieznaczne różnice zauważalne między warstwami widoczne są powyżej tej długości. Średnia wartość transmisji dla długości fali λ = 550 nm wynosiła 35%. Badanie właściwości elektrycznych wykazało, że warstwa naniesiona w mieszaninie O_2:Ar zawierającej 75% O_2 miała rezystancję wynoszącą około 17 kΩ podczas gdy rezystancja warstwy wytworzonej w atmosferze wyłącznie tlenowej wynosiła około 5 kΩ.
机译:该工作提出了在结构,光学和电性能下产生薄层铜氧化物薄层的技术过程的影响分析。通过在O_2的气氛中常规磁控膜喷涂的方法进行该研究,该方法在O_2:Ar混合物中分别为75%和100%。基于X射线衍射试验测定测试层的结构性质。基于光透射测量和基于电流 - 电压特性的电气特征在光学性质。 XRD方法表明,CuO(氧化铜II)层以金属的形式获得,中晶尺寸为约13nm。光学性质的研究表明,辐射的光传输没有差异,短于约600nm。层之间明显的微小差异在该长度之上可见。波长λ= 550nm的平均传输值为35%。电性能的测试显示施加在含有75%O_2的O_2:Ar混合物中的层具有约17kΩ的电阻,而在专门氧气气氛中的层的电阻约为5kΩ。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号