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Correlations between operation conditions and microstructure of LPCVD films

机译:LPCVD薄膜的工作条件与微观结构之间的关系

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摘要

Studying correlations between operating conditions and LPCVD films micros- tructure constitutes nowadays one of the major industrial concerns, especially in the microelectronic field. A multidisciplinary working group of about ten laboratories has been created at the beginning of 1997 to progress in this new and very ambitious research domain. This first article of a series aiming to present the numerous results obtained, describes the objective of these works, and the methodology employed.
机译:如今,研究工作条件与LPCVD薄膜显微结构之间的相关性已成为主要的工业问题之一,尤其是在微电子领域。为了在这个新的,非常雄心勃勃的研究领域中取得进展,1997年初创建了一个由约10个实验室组成的多学科工作组。该系列的第一篇文章旨在介绍获得的众多结果,描述了这些工作的目的以及所采用的方法。

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