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【24h】

パルスレーザー堆積法による複酸化物薄膜のエビタキシー

机译:脉冲激光沉积双氧化物薄膜的Ebitaxis。

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摘要

パルスレーザー堆積法では高融点な酸化物材料を容易に薄膜化できるため,高温超伝導 材料,高・強誘電材料,巨大磁気抵抗材料,電界誘起抵抗変化材料など,多種多様な機能 性酸化物材料の薄膜作製に広く用いられている。シンプルな装置構成で,だれにでも簡単 に薄膜が得られることも大きな特徴である。本稿では,このように万能とさえ思われてい るパルスレーザー堆積法の実際を解説する。
机译:由于脉冲激光沉积法可以容易地制造高熔点氧化物材料的薄膜,因此多种功能氧化物材料例如高温超导材料,高/铁电材料,巨磁阻材料和电场感应电阻变化材料。它广泛用于薄膜制造。主要特征之一是简单的设备配置允许任何人轻松获得薄膜。在本文中,我们将解释脉冲激光沉积的实际用途,该方法被认为具有多种用途。

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