Room-Temperature Operation of Patterned Quantum-Dot Lasers Fabricated by Electron Beam Lithography and Selective Area Metal-Organic Chemical Vapor Deposition

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• 来源
  《IEEE Photonics Technology Letters》 |2005年第5期|p.935-937|共3页
• 作者

  V. C. Elarde; R. Rangarajan; J. J. Borchardt; J. J. Coleman;

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• 作者单位

  Department of Electrical and Computer Engineering, University of Illinois, Urbana-Champaign, IL 61801 USA;

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• 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
• 原文格式 PDF
• 正文语种 eng
• 中图分类 光电子技术、激光技术;
• 关键词

  Electron beam lithography; metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD); patterned quantum dot; quantum-dot laser; selective area epitaxy;

  机译：电子束光刻;金属有机化学气相沉积;图案化量子点;量子点激光器;选择性区​​域外延;