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机译:沉积温度和厚度对BiFeO3薄膜电阻转换的影响
Huazhong Univ Sci & Technol Sch Opt & Elect Informat Wuhan 430074 Peoples R China;
Huazhong Univ Sci & Technol Sch Opt & Elect Informat Wuhan 430074 Peoples R China|Huazhong Univ Sci & Technol Wuhan Natl Lab Optoelect Wuhan 430074 Peoples R China;
Huazhong Univ Sci & Technol Wuhan Natl Lab Optoelect Wuhan 430074 Peoples R China;
BiFeO3; deposition temperature; memory window; resistive switching; thickness;
机译:化学溶液沉积锰掺杂BiFeO3薄膜的非极性电阻转换
机译:掺杂浓度和退火温度对Mn掺杂BiFeO3薄膜双极电阻开关阈值电压的影响
机译:外延BiFeO3薄膜的铁电温度依赖性和电阻转换行为
机译:沉积温度和厚度对BiFeO
机译:通过沉积方法和膜厚控制和设计PECVD碳掺杂低k二氧化硅薄膜的关键性能。
机译:通过底部电极的钛注入在BiFeO3薄膜开关中进行工程界面型电阻开关
机译:在400≤T≤500°C之间结晶的未掺杂BiFeO3薄膜在室温下的极化转换
机译:超临界BiFeO3薄膜的铁电畴缩放和切换沉积在邻近基板上。