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Structural, surface morphological and optical properties of nanocrystalline Cu2O films prepared by RF magnetron sputtering: substrate bias effect

机译：射频磁控溅射制备纳米晶Cu2 O薄膜的结构，表面形貌和光学性质：衬底偏置效应

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Cuprous oxide films have been prepared on glass substrates by sputtering of metallic copper target in an oxygen partial pressure of 2 × 10−2 Pa under different substrate bias voltages in the 0 to −100 V range employing RF magnetron sputtering technique. The influence of substrate bias voltage on the structural, surface morphological, electrical and optical properties has been studied systematically. The crystallite size of the films increases with the increase of substrate bias voltage up to −60 V. The films formed at substrate bias voltage of −60 V show low electrical resistivity of 12 Ω cm, larger crystallite size of 35 nm and optical band gap of 2.40 eV.
机译：通过使用RF磁控溅射技术，在0×-100 V范围内的不同基板偏置电压下，通过在2×10-2 Pa的氧分压下以2×10-2 Pa的氧分压溅射金属铜靶，在玻璃基板上制备氧化亚铜膜。系统研究了衬底偏置电压对结构，表面形态，电学和光学性能的影响。膜的微晶尺寸随衬底偏置电压的增加而增加，直到-60V。在-60 V的衬底偏置电压下形成的膜显示出12Ωcm的低电阻率，35 nm的较大微晶尺寸和光学带隙2.40 eV。

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