机译:柔性纤维调节剂,用于抛光垫的精细调节及其在化学机械抛光中的评价:SUS-FFC验证软氨基甲酸酯泡沫垫及PEEK-FFC的建议
Kanazawa Institute of Technology 3-1 Yatsukaho Hakusan Ishikawa 924-0838 Japan;
Kanazawa Institute of Technology 3-1 Yatsukaho Hakusan Ishikawa 924-0838 Japan;
Kindai University Higashi-Osaka Japan;
Showa Industries International Co. Ltd. Hirakata Japan;
flexible fiber conditioner (FFC); SUS and PEEK; diamond disk conditioner (DDC); soft and hard urethane pad; removal rate;
机译:化学机械抛光中的抛光垫调节:调节密度分布模型以预测抛光垫表面形状
机译:用于化学机械抛光的抛光垫结构和抛光垫调节的随机模型
机译:调节温度对氧化物化学机械抛光工艺抛光垫的影响
机译:波兰速率,垫表面形态和焊盘调节在氧化物化学机械抛光中
机译:使用总体平衡模型对化学机械抛光中的垫磨损和垫修整进行建模。
机译:调节剂类型和下压力以及垫表面的微观结构对SiO2化学机械平面化性能的影响
机译:用于控制化学机械抛光垫轮廓形状的调节过程的运动预测及实验证明
机译:价值工程建议的测试与评价:120 mm pa 153弹药纤维容器中橡胶paD的去除