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机译:Al_2O_3叠层Ta_2O_5金属-绝缘子-金属电容器的电容电压和温度依赖性的表征和建模
Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd., Kokubunji, Tokyo 185-8601, Japan;
metal-insulator-metal (MIM) capacitor; temperature coefficient of capacitance; voltage linearity; capacitance density; Al_2O_3; Ta_2O_5;
机译:高k金属-绝缘体-金属电容器的电容-电压特性中的非线性建模
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机译:金属-绝缘体-金属电容器中电容建模的频率依赖性
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