Plasma Parameter Variations in Ion Beam Formation Mode of a Double Plasma Device

Mrinal Kr. Mishra; Arindam Phukan; Monojit Chakraborty

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Plasma Parameter Variations in Ion Beam Formation Mode of a Double Plasma Device

机译：双等离子体装置离子束形成模式下的等离子体参数变化

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In the present investigation, our focus is to study the plasma parameter variation occurring in the diffused plasma (target chamber) of a double plasma device, where an ion beam can be injected by two different methods. A low energy ion beam (10-30 eV) is produced in our present study. It is observed that depending on the method by which the beam is formed, the target (diffused) plasma parameters alter significantly. Also it is observed that, the ion-sheath formed at the separation grid of the device expands or contracts depending on the method, which forms the beam.

机译：在本研究中，我们的重点是研究在双等离子体装置的扩散等离子体（目标腔室）中发生的等离子体参数变化，在该等离子体中可以通过两种不同的方法注入离子束。我们目前的研究产生了低能离子束（10-30 eV）。可以观察到，取决于束形成的方法，目标（扩散的）等离子体参数会发生显着变化。还观察到，在装置的分离格栅处形成的离子鞘根据形成束的方法而膨胀或收缩。

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来源
《Japanese Journal of Applied Physics. Part 1, Regular Papers, Brief Communications & Review Papers》 |2006年第12期|p.9216-9218|共3页
作者
Mrinal Kr. Mishra; Arindam Phukan; Monojit Chakraborty;
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作者单位

Centre of Plasma Physics, Tepesia, Kamrup, Assam-782402, India;

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收录信息
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类应用物理学;
关键词
double plasma device; ion sheath; ion beam; diffused plasma;

机译：双等离子体装置;离子鞘;离子束;扩散等离子体;

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