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机译:0.15μm功率变形高电子迁移率晶体管的极低噪声特性
High Speed IC Research Dept, Basic Research Laboratory, Electronics and Telecommunications Research Institute, 161 Gajeong-dong, Yuseong-gu, Daejeon 305-350, Korea;
机译:用于超低功耗低噪声放大器应用的InAs通道高电子迁移率晶体管
机译:具有不带栅极凹槽的液相氧化InGaAs栅极的InAlAs / InGaAs变质高电子迁移率晶体管的改进的微波和噪声性能
机译:In0.52Al0.48As过渡层设计对变质高电子迁移率晶体管传输特性的影响
机译:具有极低噪声特性的GaAs衬底上的0.15 / spl mu / m栅极长度InAlAs / InGaAs功率变质HEMT
机译:用于极低噪声应用的硅锗异质结双极晶体管
机译:具有厚铜金属化特性的氮化镓(GaN)高电子迁移率晶体管用于Ka波段应用的功率密度为8.2 W / mm
机译:MBE技术和低捏漏变质高电子迁移率晶体管的光电检测响应特性