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机译:热处理对Y_2O_3和La_2O_3薄膜结构的影响
Toray Research Center, Inc., 3-7 Sonoyama 3-chome, Otsu 520-8567, Japan;
high-k; rare-earth oxide; interface reaction; XPS; SIMS; FT-IR ATR;
机译:超薄La_2O_3和Y_2O_3薄膜的Ge界面工程:沉积温度影响的研究
机译:掺Y_2O_3作为高k栅绝缘体的La_2O_3薄膜的带隙增强和电性能
机译:以La_2O_3,ZrO_2为复合烧结助剂的Tm:Y_2O_3透明陶瓷的结构和光学性能
机译:通过热蒸发技术沉积Y_2O_3薄膜的光学和结构性的退火效应
机译:通过合金化和热处理来量身定制纳米晶体薄膜的机械性能。
机译:再生小麦蜡膜的结构特征
机译:退火热处理对Ce掺杂ZnO薄膜结构和光学性质的影响