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机译:选择性湿法刻蚀技术制备的垂直电极GaN基发光二极管
Photonic Devices Research Laboratory, Itswell Co., Ltd, 9-4BL, Ochang Scientific Industrial Complex., Namchon-ri, Cheongwon-gun, Chungbuk 363-911, Korea;
InGaN/GaN; LED; vertical electrode; receptor; sapphire; MOCVD;
机译:通过湿蚀刻技术制造的蓝宝石蚀刻垂直电极氮化物基半导体发光二极管(SEVENS LED)
机译:通过使用直接异质外延横向过生长技术对GaN /蓝宝石界面进行选择性湿法刻蚀来增强GaN基发光二极管的发光
机译:使用KrF激光和化学湿法刻蚀的两步表面粗糙化技术增强了GaN基垂直结构发光二极管的光输出
机译:具有选择性镍电镀和图案激光剥离技术的高功率垂直GaN的发光二极管的制造
机译:氮化镓发光二极管及其刻蚀技术的研究。
机译:揭示侧壁取向在GaN基紫外发光二极管的湿法化学蚀刻中的作用
机译:通过无掩模化学刻蚀制备的涂有银纳米颗粒的蓝宝石图案衬底上的GaN基发光二极管的性能