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首页> 外文期刊>Japanese journal of applied physics >Reactive sputter deposition of nickel oxide thin films at liquid nitrogen temperature
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Reactive sputter deposition of nickel oxide thin films at liquid nitrogen temperature

机译：液氮温度下反应溅射沉积氧化镍薄膜

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Nickel oxide thin films were reactively sputter deposited in Ar + H2O atmosphere on substrates cooled with liquid nitrogen. H2O gas was injected toward the substrate surface at various flow rates from 0 to 1.5cm(3)/min. A nickel metal target is considered to maintain the metallic state because excess H2O molecules condensed on the liquid nitrogen tank. The films deposited at liquid nitrogen temperature were found to be mixtures of nickel metal and nickel oxide. Electrochromic transmittance changes between 14 and 26% were observed for the film in a KOH aqueous electrolyte. (C) 2017 The Japan Society of Applied Physics
机译：氧化镍薄膜在Ar + H2O气氛中反应溅射沉积在用液氮冷却的基板上。将H2O气体以0至1.5cm（3）/ min的各种流速朝着基板表面注入。镍金属靶被认为可以保持金属状态，因为过量的H2O分子在液氮罐上冷凝。发现在液氮温度下沉积的膜是镍金属和氧化镍的混合物。在KOH水溶液中观察到该膜的电致变色透射率变化在14％至26％之间。 （C）2017日本应用物理学会

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