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Super-resolution in Three-dimensional Fluorescent Confocal Laser Scanning Microscopy

机译:三维荧光共聚焦激光扫描显微镜的超分辨率

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摘要

Progress in the task of designing and fabricating super-resolving masks for three-dimensional fluorescent laser scanning microscope at high numerical aperture is presented. The technique used is an extension of that previously proved at low aperture and uses a digital binary mask for optical processing in the image plane. The computational technique for calculating the mask is reviewed.
机译:介绍了在高数值孔径下设计和制造三维荧光激光扫描显微镜超分辨掩模的工作进展。所使用的技术是先前在低光圈下证明的技术的扩展,并使用数字二进制掩模在像平面中进行光学处理。审查了用于计算掩模的计算技术。

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