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Epitaxial Deposition of Platinum on Iridium at Low Temperatures

机译:低温下铱在铱上的外延沉积

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摘要

Platinum evaporated on a clean iridium surface at temperatures as low as 200°K produces epitaxial layers, as shown by field ion microscopy. If the iridium surface has been exposed to the atmosphere after forming, the temperature required for epitaxy rises to about 375°K (100°C). Even this temperature is well below that required for high mobility of the incoming atoms over the surface, as assumed in present theories of the formation of epitaxial layers.
机译:如场离子显微镜所示,在低至200°K的温度下在干净的铱表面上蒸发的铂产生外延层。如果铱表面在成形后已经暴露在大气中,则外延所需的温度将升至约375°K(100°C)。正如目前的外延层形成理论所假设的那样,该温度甚至远低于进入的原子在表面上的高迁移率所需的温度。

著录项

  • 来源
    《Journal of Applied Physics》 |1969年第10期|共6页
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  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
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  • 正文语种 eng
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