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机译:润湿布里奇曼过程中晶体坩埚间隙的毛细管稳定性
Computer Science Dept., West University of Timisoara, RO-300223 Timisoara, Romania SIMaP-EPM, BP 75, FR-38402 Saint Martin d'Heres, France;
rnSIMaP-EPM, BP 75, FR-38402 Saint Martin d'Heres, France;
rnComputer Science Dept., West University of Timisoara, RO-300223 Timisoara, Romania;
A1. Computer simulation; A1. Interfaces; A2. Growth from melt;
机译:脱丝桥工艺中出现毛细管自由表面的存在和静态稳定性。 第I部分。
机译:脱丝桥工艺中出现的毛细管自由表面的存在和静态稳定性。第二部分。
机译:在压差范围内,以确保在地面去湿的布里奇曼晶体中生长的半导体晶体具有规定的间隙尺寸
机译:脱丝桥工艺中出现毛细管自由表面的存在和稳定性。 一世
机译:聚合物薄膜的去湿不稳定性。
机译:结晶质量组成均匀性碲沉淀物/夹杂物浓度光学传动光学传输和能带隙的Bridgman生长单晶CD1-xZnxte(0≤x≤0.1)
机译:使用去湿pt装饰的TiO2纳米管产生光催化H2 - 通过多次退火优化去湿和氧化结晶 处理