Epitaxial NiO (100) and NiO (111) films grown by atomic layer deposition

著录项

• 来源
  《Journal of Crystal Growth》 |2009年第16期|4082-4088|共7页
• 作者

  E. Lindahl; J. Lu; M. Ottosson; J.-O. Carlsson;

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• 作者单位

  Department of Materials Chemistry, The Angstroem Laboratory, Uppsala University, Box 538, SE-751 21 Uppsala, Sweden;

  Angstroem Microstructure Laboratory, The Angstroem Laboratory, Uppsala University, Box 534, SE-751 21 Uppsala, Sweden;

  Department of Materials Chemistry, The Angstroem Laboratory, Uppsala University, Box 538, SE-751 21 Uppsala, Sweden;

  Department of Materials Chemistry, The Angstroem Laboratory, Uppsala University, Box 538, SE-751 21 Uppsala, Sweden;

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• 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
• 原文格式 PDF
• 正文语种 eng
• 中图分类
• 关键词

  A1. Atomic layer deposition; A2. X-ray diffraction; A3. Transmission electron microscopy; A4. NiO (100); A5. NiO (111); A6. Crystallite size;

  机译：A1。原子层沉积;A2。 X射线衍射;A3。透射电子显微镜;A4。氧化镍（100）;A5。 NiO（111）;A6。微晶尺寸;