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【24h】

Effects of Zn pre-exposure temperature on the microstructures of ZnO films grown on Si(001) substrates by plasma-assisted molecular beam epitaxy

机译:锌预暴露温度对等离子体辅助分子束外延生长在Si(001)衬底上生长的ZnO薄膜微观结构的影响

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摘要

ZnO films have been grown on Si(0 01) substrates by plasma-assisted molecular beam epitaxy. In growing the ZnO films, effects of Zn pre-exposures at temperatures of 50-400 ℃ have been investigated by X-ray diffraction and cross-sectional transmission elec
机译:ZnO薄膜已经通过等离子辅助分子束外延生长在Si(0 01)衬底上。在生长ZnO薄膜时,通过X射线衍射和截面透射电镜研究了Zn预暴露在50-400℃温度下的影响。

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