Ultraprecision finishing technique by numerically controlled sacrificial oxidation

著录项

• 来源
  《Journal of Crystal Growth》 |2008年第9期|p.2173-2177|共5页
• 作者

  Yasuhisa Sano; Takaya Masuda; Hidekazu Mimura; Kazuto Yamauchi;

  展开▼
• 作者单位

  Department of Precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1 Yamadaoka, Suita, Osaka 567-0871, Japan;

  展开▼
• 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
• 原文格式 PDF
• 正文语种 eng
• 中图分类 晶体学;
• 关键词

  A1. Surface structure; A1. Surface processes; B2. Semiconducting silicon; B3. Field effect transistors;

  机译：A1。表面结构;A1。表面工艺;B2。半导体硅;B3。场效应晶体管;