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【24h】

Non-polar a-plane GaN grown on LaAlO_3 (001) substrate by pulsed laser deposition

机译:通过脉冲激光沉积在LaAlO_3(001)衬底上生长的非极性a面GaN

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摘要

Non-polar (1120) GaN has been successfully grown on (001) LaAlO_3 (LAO) substrate by pulsed laser deposition method. The nitrogen plasma is essential to grow pure a-plane GaN films. The insertion of a ZnO buffer layer improves the quality of GaN thin film
机译:非极性(1120)GaN已通过脉冲激光沉积方法成功地在(001)LaAlO_3(LAO)衬底上生长。氮等离子体对于生长纯a面GaN膜至关重要。插入ZnO缓冲层可提高GaN薄膜的质量

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