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机译:固相密度对赣液相外延中宏观缺陷形成的影响
Department of Crystal Growth, Fraunhofer Institute of Integrated Systems and Device Technology, Schottkystrasse 10, 91058 Erlangen, Germany;
a1. surface morphology; a2. growth from high temperature solutions; a3. liquid phase epitaxy; b1. nitrides;
机译:在氢化物气相外延生长的低缺陷密度极性和非极性独立式GaN衬底上的时间分辨光致发光,正电子ni灭和Al0.23Ga0.77N / GaN异质结构生长研究
机译:在氢化物气相外延生长的低缺陷密度极性和非极性独立式GaN衬底上的时间分辨光致发光,正电子ni灭和Al_0.23Ga_0.77N / GaN异质结构生长研究
机译:勘误表:“在低缺陷密度的自支撑GaN衬底上通过金属有机气相外延生长的几乎没有堆叠功能的m面GaN同质外延膜的光学性质[Appl。物理来吧92,091912(2008)]
机译:氢化物 - 蒸汽相外延生长非常低缺陷密度立式GaN底物的表征
机译:热,应变和中子辐照对AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管和GaN肖特基二极管中缺陷形成的影响
机译:液相外延沉积金属有机骨架:衬底官能团密度对薄膜取向的影响
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