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首页> 外文期刊>Journal of Crystal Growth >Electron beam induced deposition of rhodium from the precursor [RhCl(PF_3)_2]_2: morphology, structure and chemical composition
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Electron beam induced deposition of rhodium from the precursor [RhCl(PF_3)_2]_2: morphology, structure and chemical composition

机译：电子束诱导的铑从前体[RhCl（PF_3）_2] _2的沉积：形貌，结构和化学组成

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We have studied the morphology, the structure and the chemical composition of micro- and nano-structures grown by electron beam-induced deposition of [RhCl(PF_3)_2]_2. Transmission electron microscopy revealed that the deposits are made up of face centered cubic crystalline Rh grains (4-6 nm in diameter) immersed in an amorphous matrix. Auger electron spectroscopy and electron energy loss spectroscopy showed that a carbon contamination layer is present at the deposit surface, while the bulk material contains the elements Rh (60 at%), P (20 at%), Cl, O and N (remaining 20 at%). The structure, the chemical composition of the deposits and the size of the Rh nano-crystals are independent of the deposit shape and of the deposition parameters, within the range explored in this work.
机译：我们研究了通过电子束诱导的[RhCl（PF_3）_2] _2沉积而形成的微结构和纳米结构的形态，结构和化学组成。透射电子显微镜显示，沉积物由浸没在非晶基质中的面心立方晶体Rh晶粒（直径4-6 nm）组成。俄歇电子能谱和电子能量损失能谱表明，沉积物表面存在碳污染层，而块状材料则包含元素Rh（60 at％），P（20 at％），Cl，O和N（剩余20）。在％）。在这项工作探索的范围内，沉积物的结构，化学成分和Rh纳米晶体的大小与沉积物的形状和沉积参数无关。

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