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'Multi Charged Particle Beam Writing Apparatus and Multi Charged Particle Beam Writing Method' in Patent Application Approval Process

机译:专利申请批准过程中的“多电荷粒子束书写设备和多电荷粒子束书写方法”

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摘要

2013 MAR 27 (VerticalNews) -- By a News Reporter-Staff News Editor at Journal of Engineering -- Anpatent application by the inventors YOSHIKAWA, Ryoichi (Kanagawa, JP); Ogasawara, Munehiron(Kanagawa, JP), filed on August 29, 2012, was cleared for further review on March 14, 2013, accordingnto news reporting originating from Washington, D.C., by VerticalNews correspondents.
机译:2013年3月27日(《垂直新闻》)-由《工程杂志》的新闻记者-工作人员新闻编辑-发明人YOSHIKAWA,Ryoichi(日本神奈川县)的专利申请; VerticalNews通讯员来自华盛顿特区的新闻报道称,Munehiron的Ogasawara(神奈川县,JP)于2012年8月29日提交,已于2013年3月14日批准进一步审查。

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