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首页> 外文期刊>Journal of Imaging Science and Technology >Photosensitive Materials Based on Photorearrangement of Azidovinyl and Azirine Compounds
【24h】

Photosensitive Materials Based on Photorearrangement of Azidovinyl and Azirine Compounds

机译：基于叠氮基乙烯基和叠氮基化合物光重排的光敏材料

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Six bisazidovinyl compounds (AVs) were synthesized for application to photosensitive materials. AVs easily yielded bifunctional 2H-azirine (AZ) in a thin polymer film of poly(1,2-butadiene (PB) or poly(4-hydroxystyrene) (POHSt) by heat treatment. By photoirradiation of those films, AZ yielded nitrile ylide (NY). The crosslinking reaction of the polymers proceeded through a 1,3-dipolar addition of NY with vinyl group (PB) and an addition with alcohol (POHSt). These reactions were confirmed by absorption and infrared spectra. The irradiated polymer films were insoluble in chloroform. The most sensitive AV compound is 2,7-bis(1-azidoethenyl)-dibenzothiophene, which can reproduce line-and-space patterns at 1.2 mJ cm~(-2) (PB thin film with 254-nm photoirradiation).
机译：合成了六种双叠氮乙烯基化合物（AVs），用于感光材料。 AV通过热处理容易在聚（1,2-丁二烯（PB）或聚（4-羟基苯乙烯）（POHSt）的聚合物薄膜中产生双功能2H-叠氮基（AZ），通过光辐照，AZ产生腈基内酯。 （NY）。聚合物的交联反应通过将NY与乙烯基（PB）进行1,3-偶极加成和与醇（POHSt）加成进行，这些反应已通过吸收光谱和红外光谱证实。最不敏感的AV化合物是2,7-双（1-叠氮基乙烯基）-二苯并噻吩，它可以在1.2 mJ cm〜（-2）的条件下重现线和空间图案（PB薄膜为254nm光辐射）。

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