18~O study of the oxidation of reactively sputtered Ti_1-xAl_xN barrier

M. C. Hugon; F. Varniere; F. Letendu

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18~O study of the oxidation of reactively sputtered Ti_1-xAl_xN barrier

机译：反应溅射Ti_1-xAl_xN势垒氧化的18〜O研究

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The preparation of high-permittivity perovskite materials requires high-temperature (550-750 deg. C) oxidizing environments, providing stringent limitations on the choice of electrode materials. To minimize inerdiffusion and oxidation reactions, an electrically conductive diffusion barrier such as Ti_1-xAl_xN is needed below the electrode material (Pt, IrO_2, RuO_2...).

机译：高介电常数钙钛矿材料的制备需要高温（550-750℃）的氧化环境，这对电极材料的选择提出了严格的限制。为了最小化扩散和氧化反应，在电极材料（Pt，IrO_2，RuO_2 ...）下方需要导电扩散阻挡层，例如Ti_1-xAl_xN。

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来源
《Journal of Materials Research》 |2001年第9期|p.2591-2599|共9页
作者
M. C. Hugon; F. Varniere; F. Letendu;
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作者单位

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收录信息美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类工程材料学;
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